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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]废锂电池极粉湿法剥离装备-CN202110814344.6在审
发明人：王振云;单欢乐;吴光辉;倪云;沈义芳 -专利权人：湖南江冶机电科技股份有限公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： H01M10/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种废锂电池极粉湿法剥离装备，包括用于正负极片稀酸浸泡和收集底部极粉的湿法剥离循环装置；用于打捞湿法剥离循环装置内经浸泡后的正负极片的湿法剥离网带机；用于冲洗正负极片，使其表面粘附的极粉冲洗剥落的湿法剥离振动筛；用于收集剥离脱落的极粉的极粉收集罐；所述湿法剥离循环装置、湿法剥离网带机、湿法剥离振动筛、极粉收集罐依次连接。本发明对风力分选或水力分选出来的正负极片进行短时间酸洗浸泡、液体冲刷、湿法筛分后可将粘附在正负极片上的极粉剥离脱落，剥离率可达97%以上，本装备就是为了满足极粉湿法剥离工艺要求，使极粉从正负极片上完全剥离
锂电池湿法剥离装备

[实用新型]废锂电池极粉湿法剥离装备-CN202121641376.2有效
发明人：王振云;单欢乐;吴光辉;倪云;沈义芳 -专利权人：湖南江冶机电科技股份有限公司
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： H01M10/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种废锂电池极粉湿法剥离装备，包括用于正负极片稀酸浸泡和收集底部极粉的湿法剥离循环装置；用于打捞湿法剥离循环装置内经浸泡后的正负极片的湿法剥离网带机；用于冲洗正负极片，使其表面粘附的极粉冲洗剥落的湿法剥离振动筛；用于收集剥离脱落的极粉的极粉收集罐；所述湿法剥离循环装置、湿法剥离网带机、湿法剥离振动筛、极粉收集罐依次连接。本实用新型对风力分选或水力分选出来的正负极片进行短时间酸洗浸泡、液体冲刷、湿法筛分后可将粘附在正负极片上的极粉剥离脱落，剥离率可达97%以上，本装备就是为了满足极粉湿法剥离工艺要求，使极粉从正负极片上完全剥离
锂电池湿法剥离装备

[发明专利]湿法剥离设备及其剥离方法-CN201711025369.8在审
发明人：马迪 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种湿法剥离设备，用于湿法去除基板上的光刻胶；该湿法剥离设备包括依次连通设置的入口单元、剥离单元、置换单元、水洗单元、干燥单元和出口单元；其中，置换单元提供置换液冲洗所述基板，以置换去除基板经剥离单元后残留的剥离液本发明还提供了基于上述湿法剥离设备的剥离方法。本发明通过在剥离单元和水洗单元之间设置置换单元，并通过置换液去除残留在基板上的剥离液，从而对基板进行水洗时，即可免于剥离液中一般存在的乙醇胺遇水生成碱性物质，并继而腐蚀基板上其他铝质元件的问题，从而将该湿法剥离设备及其剥离方法应用于液晶面板制作过程中
湿法剥离设备及其方法

[实用新型]半导体用湿法剥离设备-CN202220601708.2有效
发明人：朱微 -专利权人：苏州芯慧联半导体科技有限公司;固态湿法（苏州）半导体科技有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种半导体用湿法剥离设备，该半导体用湿法剥离设备(1)包括壳体(10)以及布置在壳体(10)中的喷射装置(2)和支座(13)，喷射装置(2)配置成将剥离用流体喷射到放置在所述支座(13)上的基片(4)上，以部分地剥离形成在基片(4)上的覆层，其中，湿法剥离设备(1)还包括防护装置(3)，防护装置(3)布置成包围所述支座(13)。通过提出的半导体用湿法剥离设备，能够防止剥离物飞溅到工艺腔体的内壁，从而避免剥离物附着在工艺腔体的内壁上，以降低或避免工艺腔体的清洁维护工作。
半导体湿法剥离设备

[发明专利]一种湿法剥离机的水洗装置及水洗方法-CN201710791410.6在审
发明人：徐国军;毛地雅 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-09-05 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本发明提供一种湿法剥离机的水洗装置，包括常压直水供应管路，具有连通至少一个水洗喷淋单元的支管，用于给所述水洗喷淋单元供应常压直水，所述常压直水用于在湿法剥离机宕机时对停留在所述水洗喷淋单元内的基板玻璃进行清洗；设置在常压直水供应管路上的自动阀，用于在湿法剥离机宕机时自动开启以使常压直水可供应给所述水洗喷淋单元，并在湿法剥离机恢复工作时自动关闭以断开常压直水的供应。本发明在湿法剥离机宕机时，通过常压直水对停留在水洗喷淋单元内的基板玻璃进行均匀喷淋，可减少因湿法剥离机宕机时停留在水洗喷淋单元内的基板玻璃的报废，提高产品良率，具有一定经济效益。
一种湿法剥离水洗装置方法

[实用新型]湿法剥离导流机构和湿法剥离装置-CN202123456413.5有效
发明人：袁晓峰 -专利权人：苏州能讯高能半导体有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种湿法剥离导流机构和湿法剥离装置，涉及半导体技术领域，该湿法剥离导流机构包括导流盘和导流管道，导流盘用于设置在填充有溶解液的液槽中，并位于圆片的一侧，且导流盘上开设有多个导流孔，导流管道与多个导流孔连接在实际进行湿法剥离时，圆片放置在液槽中，同时导流盘设置在圆片的一侧，圆片周围的溶解液朝向导流盘的方向加速流动，使得溶解液与光刻胶的混合溶解速度加快，加快湿法剥离进程，同时由于溶解液的流动有方向性，金属薄膜被剥离后会往导流盘上靠近
湿法剥离导流机构装置

[发明专利]处理半导体基片的半导体处理系统和方法-CN96193829.3无效
发明人：斯蒂芬·P·德奥纳勒斯 -专利权人：泰格尔公司
申请日： 1996-03-28 - 公布日： 2002-04-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种改进的装置(16，18，20，22，24，25)和方法，提供了在腐蚀操作和剥离操作之间的一个整体的剥离前清洗操作。本发明用于在单一系统中进行半导体基片(A)的干法腐蚀、湿法剥离前清洗、干法光刻胶剥离和湿法最后清洗的连续处理。$
处理半导体系统方法

[实用新型]一种半导体用湿法剥离装置-CN202222829357.3有效
发明人：任景超 -专利权人：山东龙晶半导体新材料有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体用湿法剥离装置，包括箱体，所述箱体的内腔设置有剥离机构，剥离机构包括剥离箱，剥离箱靠近箱体内壁的一侧与箱体的内壁固定连接，箱体右侧的顶部固定连接有水泵，水泵的顶部连通有第一连接管，第一连接管远离水泵的一侧延伸至剥离箱的内腔。本实用新型通过设置箱体、剥离机构、剥离箱、超声波组件、出水管、第三电磁阀、限位壳、限位杆、剥离盒、水泵、第一连接管、第二连接管、第一电磁阀、第二电磁阀、第三连接管、过滤机构、过滤盒、密封板、过滤板、第五连接管、拉环、限位条和四连接管的配合使用，解决了现有的湿法剥离装置在对半导体进行湿法剥离时不能进行资源重复利用的问题。
一种半导体湿法剥离装置

[发明专利]去除厚铝刻蚀中的条状聚合物的方法-CN202211445399.5在审
发明人：张振兴 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：步骤三、进行灰化处理以去除光刻胶图形以及聚合物，在灰化处理中还包括采用循环冲刷来剥离残留的光刻胶图形和聚合物。步骤四、在酸槽中进行湿法剥离工艺，湿法剥离工艺将湿法刻蚀时间分割从而形成多次湿法分段刻蚀，在各次湿法分段刻蚀完成后都进行多次冲洗，通过湿法分段刻蚀减少每次刻蚀时间，使酸槽的酸液保持新鲜，提高剥离效果。
去除刻蚀中的条状聚合物方法

[实用新型]湿法冶金金属剥离机剥离金属片限位接收装置与剥离机-CN201620356065.4有效
发明人：孙成余;李恒通;保自坤;刘全民;陈德华;王卡卡;赵英仕;曲洪涛;吴红林;龙明万;李勇 -专利权人：北矿机电科技有限责任公司;云南驰宏锌锗股份有限公司
申请日： 2016-04-25 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： C25C7/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿法冶金金属剥离机剥离金属片限位接收装置与湿法冶金金属剥离机，用于对已经生长了金属片的阴极板(1)剥离金属片并收集，包括上下往复运动的机架(2)、两个外限位叉(3)、刀架(4)与接料斗应用于湿法冶金金属剥离机，剥离下来的锌片不会成卷状，便于收集与整形。
湿法冶金金属剥离金属片限位接收装置

[发明专利]湿法合成革用聚酯型高耐水解高剥离聚氨酯树脂及其制备方法-CN201010145366.X有效
发明人：陈华;郦向宇;金朝锋 -专利权人：浙江深蓝轻纺科技有限公司
申请日： 2010-04-12 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： C08G18/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚湿法合成革用酯型聚氨酯树脂，尤其涉及一种单组份湿法合成革用聚酯型高耐水解高剥离聚氨酯树脂及其制备方法。湿法合成革用聚酯型高耐水解高剥离聚氨酯树脂，该聚氨酯树脂按重量百分比计由以下的组份制备得到：异氰酸酯2％～15％，聚酯多元醇化合物20％～30％，二元醇扩链剂0～5％，催化剂0.1‰～5‰，助剂0.1‰本发明所述的湿法高耐水解、高剥离聚氨酯树脂完全解决了现在的湿法耐水解合成革用含浸树脂存在的成膜性能差、含浸速度慢、剥离强度低等缺点。同时其耐水解性能也能满足耐水解合成革的要求。
湿法合成革聚酯耐水剥离聚氨酯树脂及其制备方法

[发明专利]一种太阳能电池外延结构及其衬底剥离方法-CN201811401675.1在审
发明人：罗轶;李琳琳;宋士佳 -专利权人：东泰高科装备科技有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： H01L31/042 文献下载
摘要：本发明提供一种太阳能电池外延结构及其衬底剥离方法。该太阳能电池外延结构包括待剥离衬底和设置在待剥离衬底上的牺牲层和电池层，沿远离待剥离衬底的方向，牺牲层和电池层依次设置，牺牲层包括至少一个叠层单元，各叠层单元依次叠置，叠层单元包括相互叠置的第一砷化铝层和第二砷化铝层该太阳能电池外延结构中的牺牲层能在湿法腐蚀过程增大与湿法腐蚀液的接触面积，从而提高湿法腐蚀的效率和待剥离衬底剥离效率，该牺牲层还能在衬底剥离过程中缓和电池层与待剥离衬底之间产生的剥离拉扯力，从而提高待剥离衬底与电池层的分离良率
一种太阳能电池外延结构及其衬底剥离方法

[实用新型]一种太阳能电池外延结构-CN201821934160.3有效
发明人：罗轶;李琳琳;宋士佳 -专利权人：东泰高科装备科技有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： H01L31/042 文献下载
摘要：该太阳能电池外延结构包括待剥离衬底和设置在待剥离衬底上的牺牲层和电池层，沿远离待剥离衬底的方向，牺牲层和电池层依次设置，牺牲层包括至少一个叠层单元，各叠层单元依次叠置，叠层单元包括相互叠置的第一砷化铝层和第二砷化铝层该太阳能电池外延结构中的牺牲层能在湿法腐蚀过程增大与湿法腐蚀液的接触面积，从而提高湿法腐蚀的效率和待剥离衬底剥离效率，该牺牲层还能在衬底剥离过程中缓和电池层与待剥离衬底之间产生的剥离拉扯力，从而提高待剥离衬底与电池层的分离良率
砷化铝层剥离衬牺牲层太阳能电池外延结构电池层湿法腐蚀叠层叠置剥离本实用新型衬底剥离依次设置拉扯力良率掺杂缓和

[发明专利]一种光刻胶剥离方法-CN201110383732.X无效
发明人：袁竹根 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提出了一种光刻胶剥离方法，提供一晶片，所述晶片器件面涂覆光刻胶后光刻所述光刻胶形成光刻图案，应用于离子注入后的光刻图案，所述离子注入在所述光刻图案表面形成无定形碳层，该方法还包括，通过在湿法刻蚀时加热晶片，将晶片上的热量传递到与光刻图案反应的湿法刻蚀溶液中，激发湿法刻蚀溶液的反应离子的活性，从而能够完全去除离子注入后的光刻胶表面的无定形碳层以及其下方的光刻胶。本发明提出的光刻胶剥离方法解决了由于湿法刻蚀溶液温度无法高于输送其的塑料管道的耐热温度上限，而导致的无法完全去除光刻胶的问题，使光刻胶剥离更容易，同时节约了湿法刻蚀剥离光刻胶的时间。
一种光刻剥离方法

[实用新型]湿法冶金金属剥离机主剥工位阴极板位置检测装置与剥离机-CN201620356363.3有效
发明人：保自坤;李恒通;殷兆奎;石峰;晏勇;彭俊超;唐雄;王卡卡;皇甫灵刚;陈友高;康正礼 -专利权人：北矿机电科技有限责任公司;云南驰宏锌锗股份有限公司
申请日： 2016-04-25 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： C25C7/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿法冶金金属剥离机主剥工位阴极板位置检测装置与湿法冶金金属剥离机，用于检测剥离的阴极板(1)是否位于主剥工位两侧的插口(2)中，包括两个金属接近传感器(3)和与门控制器(4)；两个金属接近传感器应用于湿法冶金金属剥离机，可以检测待剥离阴极板是否正确地处于主剥工位上，防止损伤剥离系统和阴极板，安全可靠。
湿法冶金金属剥离机主剥工位阴极位置检测装置

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